六安欣奕华电子材料项目建成投产-江苏化工网

近日，六安欣奕华电子材料生产基地及创新中心项目在六安市叶集区投产。

据介绍，该项目计划总投资12亿元，项目投产后将形成年产显示光刻胶1万吨、半导体光刻胶600吨的产能。根据此前公告，本项目占地面积97.75 亩，将建设光刻胶车间、危废库、乙类仓库、丙类仓库、罐区、控制室、动力中心、消防泵站、消防水池、废气处理、污水处理设施等其他生产及辅助设施、综合楼、创新中心等。

半导体光刻胶主要应用于集成电路制造，其追求的是极高的分辨率、精密的线宽控制及复杂的工艺适配性。随着芯片制程不断微缩至纳米级别，半导体光刻胶需与极紫外等先进光刻技术紧密配合，对杂质含量、感度、线边缘粗糙度等指标有着近乎苛刻的要求，技术壁垒极高。

显示光刻胶则主要用于平板显示产业，在彩色滤光片、电极间隙等环节形成精细图案。其更侧重于优异的透过率、色彩饱和度、高对比度以及在大面积基板上的涂布均匀性。虽然线宽要求通常比尖端半导体宽松，但需满足高生产效率和良好的视觉效果。

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